TWOJA PRZEGLĄDARKA JEST NIEAKTUALNA.

Wykryliśmy, że używasz nieaktualnej przeglądarki, przez co nasz serwis może dla Ciebie działać niepoprawnie. Zalecamy aktualizację lub przejście na inną przeglądarkę.

 

Laboratorium Technologii Próżniowych i Diagnostyki Nanomateriałów

Aparatura

Zakład dysponuje specjalistyczną aparaturą naukową-badawczą, w tym:

Aparatura technologiczna i procesowa:
- stanowisko do próżniowego nanoszenia cienkich warstw metodą parowania (Balzers),
- stanowisko do próżniowego nanoszenia cienkich warstw metodą IBAD (SHINKU KIKAI KOGYO Co. Ltd.),
- stanowisko do próżniowego nanoszenia cienkich warstw metodą BARE (NP-500),
- stanowisko do próżniowego nanoszenia cienkich warstw metodą rozpylania magnetronowego (NP-500),
- stanowisko do próżniowego nanoszenia cienkich warstw gradientowych metodą rozpylania magnetronowego (opatentowana własna konstrukcja),
- systemy zasilające (Dora Power System - 5; 7; 10; 15kW) wyrzutni magnetronowych: DC, MF (100kHz), pulsed- dc (110kHz),
- piec rurowy Nabertherm temp. max 1100 °C z możliwością wygrzewania próbek w kontrolowanej atmosferze w gazach utleniającej, obojętnych lub redukujących,
- stanowisko do wytwarzania nanoproszków metodą chemiczną,
- komora laminarna do przygotowywania podłoży i próbek do procesów PVD,
- stanowisko do modyfikacji plazmowej podłoży polimerowych w powietrzu,
- stanowisko do wytwarzania powłok cienkowarstwowych metodą spin-coatingu,
- suszarka do wygrzewania nanoproszków i powłok cienkowarstwowych,
- stanowisko do mycia podłoży i szkieł laboratoryjnych;


Aparatura diagnostyczna i badawcza:
- systemy optycznej spektroskopii emisyjnej OES (300÷800 nm),
- stanowisko do interferencyjnych pomiarów grubości cienkich warstw,
- stanowisko do pomiarów charakterystyk I-V emiterów polowych,
- skaningowe mikroskopy elektronowe: JSM-35 (firmy JEOL) z wyposażeniem do obrazowania 3D, JSM-840 (JEOL) z wyposażeniem do obrazowania 3D w niskiej próżni (dielektryki, obiekty uwodnione),
- stanowisko do badania transmisji, odbicia i absorbancji światła (w zakresie spektralnym 200÷2500 nm) na stole optycznym – 2 spektrofotometry Ocean Optics NIR 256 i QE 65000, źródło światła DH-BAL 2000;
- stanowisko do badania charakterystyk czułości spektralnej i fotoluminescencji  (w zakresie spektralnym 200÷1300 nm) na stole optycznym wyposażone w lampę XE 450 i 2 monochromatory Optel;
- charakterograf prądowo-napięciowy ze stacją pomiarową i klatką Faraday’a – Keithley 4200-SCS Semiconductor Characterization System, Cascade Microtech M150;
- analizator impedancji – Agilent 4294A;
- stanowisko do badań elektrycznych metodą sondy czteropunktowej oraz do pomiarów  metodą Halla – sonda typu JANDEL, Keithley 2611 System SourceMeter;
-stanowisko do prac warsztatowych w zakresie montażu elektronicznego;
- specjalistyczny kriostat azotowo-helowy - komora do badania efektów  gazo-, elektro-, termo- i fotochromowych – JANIS Research Co. Inc.;
- komora do badania termicznych właściwości ognioodpornych powłok optycznych;
- stanowisko do badania właściwości termoelektrycznych (wyznaczanie typu przewodnictwa);
- stanowisko do projektowania i analizy powłok optycznych – oprogramowanie FTG FilmStar, Scout;
- stanowisko do badania właściwości antystatycznych wraz z komorą klimatyczną – John Chubb Instrumentation;
- stanowisko do badania struktury geometrycznej powierzchni i grubości powłok optycznych – Taylor Hobson Talysurf CCI Lite;
- optyczny mikroskop transmisyjno-odbiciowy z cyfrowym systemem obrazowania – Olympus BX51;
- stanowisko do badania odporności na zarysowania powłok optycznych – Summers Optical;
- stanowisko do badania zwilżalności powierzchni cienkich warstw – Attension Theta Lite;
- Tester do badania odporności na ścieranie metodą Bayera (wytrząsarka);
- stanowisko do badania aktywności fotokatalitycznej powłok cienkowarstwowych i nanoproszków
- stanowisko do badania widm absorbancji;
- stanowisko do pomiarów fotokonduktnacyjnych za pomocą zogniskowanej wiązki świetlnej (LBIC).
- system (dydaktyczny) do pomiaru charakterystyk I-V ogniw słonecznych (‘jasnych’) o wymiarach do 10x10 cm przy zmiennych warunkach natężenia światłą i temperatury (~20 – 60°C, termostat wodny); oprogramowanie własne;
- system (badawczy) do pomiaru charakterystyk I-V ogniw słonecznych (‘jasnych’ i ‘ciemnych’) o wymiarach do 156x156 cm przy zmiennych warunkach natężenia światła i temperatury  (~0 – 60°C, system komórek Peltier); zakres pomiaru napięcia -10 - +10 V prądu ~±1 mA - ±20 A. System umożliwia wyznaczanie współczynników temperaturowych prądu, napięcia i mocy oraz wyznaczanie parametrów dla kilku wersji elektrycznych diodowych modeli zastępczych ogniwa (SEM, DEM i VDEM); system wyposażony jest w symulator światłą słonecznego klasy A (IEC 60904-9) prod. Yamashita Denso (Japonia); oprogramowanie własne; możliwość zmian natężenia światła w zakresie ponad 3 rzędów wielkości (< 1 W/m2 - ~1100 W/m2)
- system (dydaktyczny i badawczy) do pomiarów charakterystyk ‘ciemnych’ ogniw i modułów PV wszelkiego typu w zakresie ±120 V i ±2.5 A lub ±60 V i ±10 A (min. prąd mierzony ~10-8 A). Oprogramowanie umożliwia wyznaczanie parametrów dla kilku wersji elektrycznych diodowych modeli zastępczych ogniwa (SEM, DEM i VDEM); oprogramowanie własne;
- szafa (prod. Steuernagel Lichttechnik) do pomiaru charakterystyk I-V modułów PV o wymiarach do 0.5 – 1 m.  Źródło światła – system oświetlaczy halogenowych o mocy ~7,2 kW; oprogramowanie własne;
- szafa klimatyczna (wykorzystywana do pomiarów „ciemnych”) z możliwością zmian temperatury w zakresie ~ -40oC - +85oC wyposażona w okablowanie umożliwiające poprawne pomiary ‘ciemnych’ charakterystyk I-V (i ich temperatury) in situ jednocześnie do 10-u modułów PV;
- laminator SPI-Laminator 240 firmy Spire- laminowanie modułów PV o rozmiarach ~60-120 cm
- dwa stanowiska do długoterminowego ciągłego testowania modułów PV w warunkach naturalnych  oraz stacja meteorologiczna; oprogramowanie (baza danych) własne wykonane w systemie SAS;
- oprogramowanie do projektowania i modelowania ogniw i modułów PV (Solar Design Studio i BlueSol, SolarFit, EasyFit, SolarSpectrum, IVTranslation.

Politechnika Wrocławska © 2024